भाषा बदलें

सल्फ्यूरिक एसिड

उत्पाद विवरण:

अधिक देखने के लिए क्लिक करें
अपना उत्पाद साझा करें:

उत्पाद वर्णन

कुशल पेशेवरों की हमारी टीम द्वारा सशक्त, हम प्रीमियम गुणवत्ता वाले सल्फ्यूरिक एसिड के अग्रणी प्रोसेसर, निर्यातकों और आपूर्तिकर्ताओं में से एक के रूप में स्थापित हुए हैं। इस रसायन का सामान्य उपयोग औद्योगिक रसायनों, सफाई रसायनों, दवाओं के प्रसंस्करण में होता है और कभी-कभी इसका उपयोग इसके विश्लेषणात्मक उपयोगों के अलावा उत्प्रेरक के रूप में भी किया जाता है। प्रस्तावित रसायन हमारे कुशल पेशेवरों द्वारा अंतरराष्ट्रीय गुणवत्ता मानकों के अनुसार उच्च गुणवत्ता वाले बुनियादी रसायनों का उपयोग करके नियंत्रित परिस्थितियों में तैयार किया जाता है। ग्राहक उचित दरों पर विभिन्न सांद्रता और पैकेजिंग विकल्पों में हमसे इस प्रस्तावित सल्फ्यूरिक एसिड का लाभ उठा सकते हैं।

विशेषताएं :

सही सूत्रीकरण
पवित्रता
विलायक प्रतिरोध
इष्टतम घुलनशीलता

सल्फ्यूरिक एसिड का अनुप्रयोग

सल्फ्यूरिक एसिड, H2SO4, एक चिपचिपा, मजबूत खनिज एसिड है जिसका आणविक भार लगभग 98.079 g/mol है। रंग में थोड़ा पीला, सल्फ्यूरिक एसिड तीखा-ईथर होता है, जो सभी सांद्रता में पानी में आसानी से घुलनशील होता है। अपनी सांद्रता के आधार पर यह अम्ल विभिन्न प्रकार के गुण प्रदर्शित करता है। इसलिए, इसके आकर्षक गुणों के कारण सल्फ्यूरिक एसिड का उपयोग इसकी प्रतिस्पर्धी कीमतों के कारण विभिन्न उद्योगों में किया जाता है।

सल्फ्यूरिक एसिड के कुछ उपयोग निम्नलिखित हैं:

सल्फ्यूरिक एसिड का उपयोग उर्वरक उद्योगों में विभिन्न प्रकार के उर्वरकों जैसे अमोनियम सल्फेट, चूने के सुपर फॉस्फेट आदि के प्रसंस्करण में किया जाता है।
इसका उपयोग विभिन्न रासायनिक उद्योगों में हाइड्रोक्लोरिक एसिड, नाइट्रिक एसिड, ईथर, प्लास्टिक, सिलोफ़न, धातु सल्फेट्स, फॉस्फोरिक एसिड, रंग, दवाएं, कीटाणुनाशक, इत्र और गोंद बनाने के लिए भी किया जाता है।

विस्फोटक उद्योगों में, सल्फ्यूरिक एसिड का उपयोग नाइट्रोग्लिसरीन एसिड और ट्राई-नाइट्रो-टोल्यूनि (टीएनटी) के निर्माण के लिए किया जाता है।
इसके साथ ही सल्फ्यूरिक एसिड का उपयोग गैसोलीन से सल्फर और टार यौगिकों को हटाने के लिए किया जाता है।
इलेक्ट्रोलाइट के रूप में लेड एसिड बैटरियों में उपयोग किया जाता है
सल्फ्यूरिक एसिड का उपयोग लोहे और स्टील से ऑक्साइड हटाने के लिए भी किया जाता है

विशिष्टता:

उपस्थिति	साफ़ तैलीय तरल.	घुलनशीलता	पानी के साथ मिश्रित होने पर, अधिक गर्मी मुक्त करता है
विशिष्ट गुरुत्व	1.84 (98%)	पीएच:	1 एन समाधान (लगभग 5% w/w) = 0.3; 0.1 एन समाधान (लगभग 0.5% w/w) = 1.2; 0.01 एन समाधान (लगभग 0.05% w/w) = 2.1.
क्वथनांक	सीए। 290C (लगभग 554F) (340C पर विघटित होता है)	गलनांक	3सी (100%), -32सी (93%), -38सी (78%), -64सी (65%)।
वाष्प घनत्व (वायु=1)	3.4	वाष्प दबाव (मिमी एचजी)	1 @ 145.8C (295F)